Нетаньяху во время визита в США встретился с Илоном Маском - «Технологии»

Премьер-министр Израиля Биньямин Нетаньяху сообщил, что во время визита в США встретился с американским предпринимателем Илоном Маском. Об этом политик написал в своем аккаунте в соцсети Х.

«Мы обсудили возможности и вызовы искусственного интеллекта, его воздействие на экономику и общество, а также обсудили пути технологического сотрудничества с Израилем», — сказал он.

Ранее Маск заявил, что Демократическая партия США проявляет открытый антисемитизм. Он выразил свое мнение в ответ на комментарий конгрессвумен Александрии Окасио-Кортес. Она написала, что Нетаньяху «потерял многих», из-за чего только часть членов конгресса присутствовала на его выступлении.

В своем комментарии Маск отметил, что «демократическая партия стала открыто антисемитской».

Около 50% демократов из числа членов Конгресса США не пришли на выступление Нетаньяху на заседании палат парламента в среду, 24 июля. По данным Axios, речь израильского политика пропустила и экс-спикер Палаты представителей Нэнси Пелоси и Окасио-Кортес.